濺射靶材

濺射靶材主要用于真空鍍膜設備中,通過物理氣相沉積(PVD)在基片上涂覆薄膜層,以增加新的功能或創建微小的連接,如薄膜晶體管(TFT)。

用于制備濺射靶材的材料種類繁多,主要取決于最終的用途,因此既可以由純金屬制成,也可以由非常復雜的合金材料制成。

先(xian)導薄膜(mo)材(cai)料(liao)為各行業(ye)客戶提供不(bu)同材(cai)料(liao)所制成(cheng)的(de)平面靶材(cai)和旋轉靶材(cai),我(wo)們的(de)制備(bei)技術先(xian)進,保證產品(pin)達到(dao)最佳的(de)使用(yong)性(xing)能(neng)。

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