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濺射靶材主要用于真空鍍膜設備中，通過物理氣相沉積（PVD）在基片上涂覆薄膜層，以增加新的功能或創建微小的連接，如薄膜晶體管（TFT）。
用于制備濺射靶材的材料種類繁多，主要取決于最終的用途，因此既可以由純金屬制成，也可以由非常復雜的合金材料制成。
先導薄膜材(cai)料為各行業客戶提供不同材(cai)料所制成的平面(mian)靶材(cai)和旋轉(zhuan)靶材(cai)，我(wo)們的制備技(ji)術先進，保證(zheng)產品達到最佳(jia)的使用性能。
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